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精密運動平臺定做廠家

Wafer & Precision Instrument Motion Stage

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  • 激光實驗平臺

激光實驗平臺

  • 一般環境使用
  • 激光實驗平臺配置可根據具體需求有所不同,除了激光器和控制系統外,主要還有高精密工作臺,執行單元可采用高精密的直驅電機,大理石底座提供穩定可靠的基礎。XY軸十字疊層三片式結構,帶旋轉功能。底軸寬度約是上軸長度的2/3,可防止重心不穩定。配備自潤滑的精密滾柱導軌,具有精度高、剛性好等特點。R軸轉臺結構扁平薄,可360度旋轉用于角度調整。

  • 產品參數

    重復定位精度:±1μm
    定位精度:3μm
    有效行程:100 - 350mm
    最高速度:300mm/s
    直線度:6μm / 500mm
    最大負載:10kg

    Tips:絲桿直線模組行程超過750mm時,會產生螺桿偏擺,此時請將降低速度,詳情參數及選型建議咨詢業務人員。

激光實驗平臺屬于高精密運動平臺,通常用作高精密激光雕刻、切割等生產制造,根據用戶需求配置大有不同,通常使用大理石框架和直驅電機,配合光柵尺精密反饋,更多激光實驗平臺方案請咨詢。


運動平臺特點

  • 高精度的直驅結構;

  • 中型寬度,高剛度設計;

  • 光柵尺閉環反饋;

  • R軸角度定位;

  • 定制高加速度;

  • 可選配防塵罩裝置。 


運動平臺參數

 規格  軸向 X軸Y軸R軸
重復定位精度±1μm±1μm±5 arc sec
定位精度3μm3μm30 arc sec
有效行程100 - 350mm100 - 600mm-
最高速度300mm/s-
直線度6μm / 500mm   -
行走平面度000級 -
加速度0.5G-
最大負載10kg-
光柵尺分辨率0.1μm-

注意:以上參數僅做為選型參數使用,最終參數以出廠產品為準。以上定位精度在實驗環境下激光干涉儀補償后測得。


本文關鍵詞: 精密運動平臺