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精密運動平臺定做廠家

Wafer & Precision Instrument Motion Stage

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  • XY軸精密對位平臺
  • 精密對位平臺

XY精密對位平臺

  • 一般環境使用
  • 一款高精密XY位移平臺,高運動精度和穩定性。非接觸式光學編碼器以極高的精度直接在平臺上測量位置,可選中空設計。采用UP級交叉滾子導軌,具有高負載能力、長使用壽命、使用免保養和高導向精度等多種特點。可配R軸旋轉軸,多應用于晶圓檢測、電子顯微鏡平臺、LCD封裝檢測、透鏡激光熔覆加工等。

  • 產品參數

    單向重復定位精度:0.4μm
    雙向重復定位精度:±2μm
    有效行程:102mm × 102mm
    直線度 / 平面度:±2μm
    最小位移:0.4μm

    Tips:絲桿直線模組行程超過750mm時,會產生螺桿偏擺,此時請將降低速度,詳情參數及選型建議咨詢業務人員。

對位平臺特點

  • 單向重復精度高,運動速度快;

  • 增量線性編碼器分辨率可達1納米;

  • 兩相步進電機可實現高轉矩和高分辨率;

  • 直流電機可實現高速度穩定性、低振動和高速;

  • 循環滾珠軸承負載能力高、使用壽命長。


對位平臺參數

 規格  型號LEIZ-XY-102
單向重復定位精度0.4μm
雙向重復定位精度±2μm
有效行程102mm × 102mm
直線度 / 平面度±2μm
最小位移0.4μm
角度誤差xry±40μrad
角度誤差xrz±20μrad
角度誤差yrx±40μrad
角度誤差yrz±20μrad

注意:以上測試數據均在實驗室環境下,僅做為選型參數使用,最終參數以出廠產品為準。


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